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YOKOGAWA激光光谱仪TDLS5500

品牌: YOKOGAWA 原产地:日本
发布时间: 2022-02-24 10:37:23
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YOKOGAWA

主营:集散控制系统,压力变送器,流量计,温度变送器,气体分析仪

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产品详情

YOKOGAWA激光光谱仪TDLS5500

YOKOGAWA激光光谱仪TDLS5500产品介绍

TDLS5500 是采用 OFCEAS(光反馈腔增强吸收光谱)技术和 LPS(低压采样)的微量气体分析仪。它也是一种计算机化设备,可以实时测量过程中所含的气体量。

光学谐振腔结构使有效路径长度变长(可达30公里),实现超高灵敏度。

气体内的相互作用通过低压采样减少。这消除了交叉敏感性和误报的影响。

TDLS5500气体分析仪的特点和优势

通过基于激光的测量进行高速连续分析

无零漂移,非接触式测量无传感器老化

低维护:无耗材、无洗涤器、无光学移动部件和预校准

应用

乙烯中的痕量 C 2 H 2测量

天然气中的痕量 H 2 S 分析仪和痕量 H 2 O 分析仪

烃过程的痕量 H 2 O 测量

乙烯中的痕量 C 2 H 2测量

客户的利益

该分析仪可以在乙烯工艺中高速测量痕量 C 2 H 2
使用高速可靠的 TDLS5500 信号通过工艺优化提高工艺效率。
通过高速检测异常高浓度的 C 2 H 2作为杂质来避免不合格(乙烯)产品。

 

OFCEAS 的长光程长度
→ 高灵敏度

激光束在光腔中重复大量反射以获得千米级光路长度。

OFCEAS 非常长的光程长度

低压采样超高分辨率
→ 无背景气体干扰

显示低压气体测量效果的示例。

低压气体光谱非常窄

TDLS5500在乙烯生产过程中提供可靠和高速的痕量 C 2 H 2测量

TDLS5500 C 2 H 2分析仪在乙烯生产过程中的典型安装

乙烯生产过程中TDLS5500 C2H2分析仪安装示例

测量点 1:在乙炔转化器出口处测量
痕量 C 2 H 2以优化反应器工艺

测量点 2:在 C 2分离器顶部出口处测量
痕量 C 2 H 2以防止最终乙烯产品不合格

 

一般规格摘要

测量性能

被测成分分钟。范围最大限度。范围重复性响应时间*
乙烯中的2 H 20 ~ 5 ppm0 ~ 100 ppm± 50 ppb 或读数的 ± 2%,以较大者为准< 20 秒。

如果您的样品的测量范围或流组成超出上述范围,请咨询横河电机。
对于应用可行性检查,请通过填写应用数据表来分享工艺条件,该数据表可在 TDLS5500 通用规范中找到。

* 响应时间基于 T10 - T90,取决于流路成分和工厂配置,特​​别是传输线的长度。

危险区域分类

ATEX 防护类型:II 2G Ex pxb IIC T3 Gb
防护等级:IP54(符合EN 60529)

天然气中的痕量 H 2 S 分析仪和痕量 H 2 O 分析仪

客户的利益

可靠的痕量 H 2 S 和 H 2 O 测量,不会因工艺流中 H 2 S 或 H 2 O 的突然高浓度而导致意外停机。

 

OFCEAS 的长光程长度
→ 高灵敏度

激光束在光腔中重复大量反射以获得千米级光路长度。

OFCEAS 非常长的光程长度

低压采样超高分辨率
→ 无背景气体干扰

显示低压气体测量效果的示例。

低压气体光谱非常窄

TDLS5500 在天然气中提供可靠和高速的痕量 H 2 S 或 H 2 O 测量

天然气加工中 H 2 S 分析仪和 H 2 O 分析仪的典型安装

天然气加工中 H2S 分析仪和 H2O 分析仪的典型安装

 

一般规格摘要

测量性能

被测成分分钟。范围最大限度。范围重复性响应时间*
天然气中的2 S0 ~ 5 ppm0 ~ 1000 ppm± 100 ppb 或读数的 ± 2%,以较大者为准< 10 秒。
天然气中的2 O0 ~ 5 ppm0 ~ 500 ppm< 30 秒。

如果您的样品的测量范围或流组成超出上述范围,请咨询横河电机。
对于应用可行性检查,请通过填写应用数据表来分享工艺条件,该数据表可在 TDLS5500 通用规范中找到。

* 响应时间基于 T10 - T90,取决于流路成分和工厂配置,特​​别是传输线的长度。

危险区域分类

ATEX 防护类型:II 2G Ex pxb IIC T3 Gb
防护等级:IP54(符合EN 60529)

烃过程的痕量 H 2 O 测量

客户的利益

可靠的痕量 H 2 O 测量,不会因工艺流中 H 2 O 的突然高浓度而导致意外停机。

 

OFCEAS 的长光程长度
→ 高灵敏度

激光束在光腔中重复大量反射以获得千米级光路长度。

OFCEAS 非常长的光程长度

低压采样超高分辨率
→ 无背景气体干扰

显示低压气体测量效果的示例。

低压气体光谱非常窄

TDLS5500 在碳氢化合物过程中提供可靠和高速的痕量 H 2 O 测量

烃过程中痕量 H 2 O 分析仪示例

  • 出口重整器中的催化重整装置,用于检查重整
  • 烷基化 - C 4循环流中的硫酸和 HF用于腐蚀保护
  • 用于腐蚀保护的 H 2循环中的加氢处理装置

 

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