MKS发生器 RPS-CH24P1

RPS-CH24P1，24 kW 远程等离子体源设计用于半导体、平板显示器或光伏 （PV） 工艺中使用的大型原子层沉积 （ALD） 和四联式化学气相沉积 （CVD） 室。分体式供电 DC/RF 设计由机架安装式直流电源和 24 kW RF 远程环形涂覆器头组成，可为腔室清洁应用或高流量混合气体应用提供对 NF3 分子的高效破坏。

紧凑的分体式涂胶机电源设计，可轻松集成到 OEM 工艺腔室

增加氟自由基输出，缩短清洁时间周期

EtherCAT® 通信可实现快速、可靠的数据流和单元控制

新的等离子块组件可实现快速车削维护

输出功率24 千瓦

射频频率400千赫

准确性±1% 至功率设定点

点火时的供气阿

NF3 操作反应物输出1-25 层流明 20T

兼容物种NF3， O2， N2， Ar

混合物种空间30-90 毫升

断续器<15%

进气接口KF40

出口气体连接KF50

需要冷却水远程管理头：3 加仑/分钟（11.36 升/分钟）

直流电源：2 加仑/分钟（7.57 升/分钟）

控制接口模拟：DB25

数字：以太猫

电源要求208 V，3 相 50/60 Hz，75 安培 RMS 最大相位

尺寸遥控云台：22.02 x 10.76 x 11.1 英寸（55.93 x 27.33 x 28.19 厘米）

电源：21.24 x 19.00 x 7.0 英寸（53.95 x 48.26 x 17.78 厘米）

重量遥控头：100 磅（45.36 千克）

电源：62 磅（28.12 千克）

合规赛米 F47

特征

RPS-CH24P1 特性

电源架构

24 kW RF 功率输出

±1% 的功率设置

精度 直流升压功率调节

用于腔室清洁

的工艺

NF3 物质 能够支持 NF3、O2、N2、Ar 的

混合气体

维护

等离子电解氧化物等离子体块涂层，可延长块寿命，降低运行费用

RPS-CH24P1 环形等离子体涂药头

分体式动力传动系设计使腔室安装具有更大的灵活性，并且易于检修，无需破坏腔室真空。RF 动力总成保持耦合到环形涂药头，以实现更高的等离子体稳定性，而直流整流电源产品功能电源则为涂覆器头提供符合 SEMI F47 标准的电源。新的磁性元件设计与新的功率升压电子元件相结合，可降低功率损耗，增强点火可重复性，并提高等离子体稳定性，从而提高可靠性和可重复性能。

RPS-CH24P1 配备 EtherCAT® 通信协议，可流式传输关键参数数据，从而实现工具上或晶圆厂内诊断。主动冷却 MKS 低场环形涂覆器和专有的高纯度 Al2O3 涂层可提供极长的等离子体涂覆器使用寿命，从而降低晶圆厂的运营费用。当设备确实需要日常维护时，可以在不拆卸电力电子设备的情况下完成等离子体块涂药器的维修，从而减少维修时间。