MKS发生器 RPS-CM12P1

RPS-CM12P1，12 kW 远程等离子体源可在原子层沉积 （ALD）、化学气相沉积 （CVD） 或物理气相沉积 （PVD） 工艺中实现自由基增强沉积或选择性蚀刻预清洁工艺。在腔室清洁应用中，RPS-CM12P1 具有更大的功率范围和工艺气体流量，可缩短腔室清洁时间，同时保持与上一代远程等离子源 Paragon® 产品相同的占地面积。

设计紧凑，可轻松集成到 OEM 工艺腔室

增加氟自由基输出，缩短清洁时间周期

EtherCAT® 通信提供快速、可靠的数据流和单元控制

新的等离子块组件可实现快速车削维护类型RPS-CM12P1 远程等离子体源

输出功率12 kW，三相 50/60 Hz，40 安培 RMS 最大相位

射频频率400千赫

准确性±1% 至功率设定点

点火时的供气阿

NF3 工艺气体1-12 层流明，1-10 吨

NF3 操作反应物输出1-12 毫升

混合物种空间30-60 毫升

断续器>15%

进气接口KF40

出口气体连接KF50 或 KF40

控制接口模拟：DB25

数字：以太猫

尺寸18.4 x 9.5 x 10.5 英寸（46.73 x 24.13 x 26.67 厘米）

重量73 磅（33.11 千克）

合规赛米 F47RPS-CM12P1 特性

功率架构

12 kW RF 功率输出

，±1% 的功率设置

精度 直流升压功率调节

用于腔室清洁

的工艺

NF3 工艺 能够

支持 NF3、O2、N2、Ar

维护

等离子电解氧化物等离子体块涂层，可延长块寿命，降低运行费用

RPS-12P1 远程等离子体源

新的磁性元件设计与新的功率升压电子元件相结合，可降低功率损耗，增强点火可重复性，并提高等离子体稳定性。这些设计改进还提供了改进的产品可靠性和可重复的工艺性能结果。远程等离子体源冷却设计中的其他增强功能允许运行混合气体和高复合气体物种，而不会牺牲等离子体块寿命，从而降低服务成本。正在申请专利的创新控制架构可降低存储电容，同时符合 SEMI F47 抗扰度响应要求。用户定义的等离子体功率设定点的功率精度为±1%，从而降低了工艺腔室之间的单位间差异。

RPS-CM12P1 配备 EtherCAT® 通信协议，可流式传输关键参数数据，从而实现工具上或晶圆厂内诊断。当设备确实需要日常维护时，可以在不拆卸电力电子设备的情况下完成等离子体块涂药器的维修，从而减少维修时间。