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THIERRY 离子 PP604D
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低压等离子体涂层是在等离子体过程中使用气体或汽化液体单体的混合物作为原料在零件表面产生涂层或薄膜的过程,其优点是与表面清洁和活化过程在同一腔室中进行而不会破坏真空。它还具有作为干燥过程进行而不产生水性废物流的优点,从而减少了工人暴露于健康风险中。
该过程通常称为等离子体沉积,因为通过将气体或单体蒸汽引入等离子体流中,通过将原料沉积到表面上来产生所需的涂层。大多数等离子真空系统都是计算机控制的,因为该过程需要在真空室内进行精确的时间和压力控制,以产生特定所需的涂层厚度和均匀性。这种低压应用工艺可用于生产厚度范围为10纳米至100微米的致密,高质量的涂层,具有层状或柱状微观结构。
沉积可以采用以下形式:
与传统喷涂相比,低压等离子涂层具有以下优点:
低压等离子体涂层是在等离子体过程中使用气体或汽化液体单体的混合物作为原料在零件表面产生涂层或薄膜的过程,其优点是与表面清洁和活化过程在同一腔室中进行而不会破坏真空。它还具有作为干燥过程进行而不产生水性废物流的优点,从而减少了工人暴露于健康风险中。
该过程通常称为等离子体沉积,因为通过将气体或单体蒸汽引入等离子体流中,通过将原料沉积到表面上来产生所需的涂层。大多数等离子真空系统都是计算机控制的,因为该过程需要在真空室内进行精确的时间和压力控制,以产生特定所需的涂层厚度和均匀性。这种低压应用工艺可用于生产厚度范围为10纳米至100微米的致密,高质量的涂层,具有层状或柱状微观结构。
沉积可以采用以下形式:
与传统喷涂相比,低压等离子涂层具有以下优点: