THIERRY 离子 SF000334

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等离子喷涂涂层

目前，使用单体蒸汽或气体作为原料生产大气等离子喷涂涂层以产生涂层或沉积的工艺设备是可用的。大气等离子喷涂设备价格实惠，易于配置和使用。在研究或制造的基础上，可以将您选择的单体或气体原料加载到大气等离子体源中并始终如一地进行等离子喷涂涂层。如今，经过验证的大气等离子体沉积工具可以实现良好的运行设备效率、可重复性和可靠性。

工业制造是等离子体增强化学气相沉积（PECVD）应用的领导者。使用PECVD生产涂层以永久改变材料中的表面能，应用低摩擦涂层，或涂覆材料以增强材料的性能或性能。

医疗器械制造已经使用PECVD作为产生材料性能变化的一种方式。等离子体增强化学气相沉积PECVD也可用于功能化，涂层或表面增强，也可以通过等离子体处理。准备用于细胞生长的植入式装置的表面或提供中间层以促进更好的涂层附着力是典型的应用。等离子处理为医疗制造应用提供可重复、稳定、受控的工艺。

低摩擦涂层

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等离子体增强化学气相沉积（PECVD）用于应用低摩擦涂层是等离子涂层技术的常见应用。改变弹性密封件，O形圈或具有粘性表面的部件的表面能以简化组装或实现振动转鼓进料的要求通常用于工业中。

低摩擦涂层功能原理

应用低摩擦涂层的过程在低压等离子体系统中进行。该过程可以在篮子或罐子中扁平零件或散装的托盘上执行。批处理过程首先进行等离子清洗和活化，以确保涂层具有清洁，活跃的表面粘合。然后将这批零件暴露于等离子体工艺中，以应用所需的工艺化学成分，以涂覆所选的低摩擦材料而不会破坏真空。这些涂层可以来自一系列类似PTFE的材料。SiO2类材料或碳或增强型碳涂层。低摩擦应用的表面优化有很多选择需要考虑。