THIERRY 离子 PF0165系列

THIERRY 离子 PF0165系列

半导体：等离子清洗和活化应用于晶圆、焊盘和引线框架，以促进附着力，提高二次工艺的可靠性

太阳的：等离子清洗用于清洁焊盘和导电材料，以提高器件和封装电气连接的导电性和可靠性

纺织品：等离子清洗和活化用于去除纺织品的制造污染，以提高涂层的耐久性和性能寿命

橡胶加工商：在胶合或粘合之前去除脱模剂和润滑剂

等离子体涂层或等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是一种使用等离子体的应用，用于改变材料的性能以在表面上产生涂层。不同分子基团或单体的超薄层应用于物体和表面。在这种等离子涂层工艺的帮助下，表面可以制成疏水或亲水，耐刮擦，防腐蚀或功能化以实现粘合。

等离子涂层功能原理

对于低压等离子体涂层，将气体或液体单体蒸汽引入等离子体室。该过程气体或蒸汽在等离子体的帮助下进行分子键合。该涂层的沉积范围为10s埃至微米，具体取决于工艺参数。

对于大气等离子体工艺的涂覆，气态单体通过载气直接引入等离子体射流中。因此，等离子体将单体聚焦在表面上并将其聚合。

疏水性单体 - 六甲基二硅氧烷 （HMDSO）

使用HMDSO作为原料生产等离子体增强化学气相沉积涂层的过程可以产生疏水涂层。使用HMDSO生产疏水涂层或类似聚合物的涂层的过程可以通过限制或消除沉积时工艺气体中使用的氧气量来实现。该过程中缺氧会产生具有类似聚合物性能的涂层。通过向工艺中添加较高浓度的氧气，产生氧化物浓度较高的亲水涂层。随着工艺气体浓度在氧气浓度中的增加，产生的沉积物变得不那么有机，在氧化硅浓度中更高。