THIERRY 离子 PP668D

THIERRY 离子 PP668D

特殊四 140-低硫-PC-2

控制柜：

宽 600 mm 高 1700 mm D 800 mm

室：

腔室容积：

140

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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等离子阿舍尔

特殊四 15-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 600 mm 高 1700 mm D 800 mm

室：

腔室容积：

15

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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等离子体活化

特殊四 150-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 600 mm 高 2100 mm D 800 mm

腔室：

宽 15.8“ x 高 23.6” x 深 24.6”

腔室容积：

150

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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等离子体活化

特殊利乐2000-射频-PC

控制柜：

宽 600 mm 高 2100 mm D 800 mm

室：

腔室容积：

2000

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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等离子清洗

特殊四 240-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 870 mm 高 1860 mm D 1400 mm

室：

腔室容积：

240

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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等离子清洗

特殊四 2400-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 600 mm 高 2100 mm D 800 mm

室：

腔室容积：

2400

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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等离子蚀刻

特殊四 260-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 870 mm 高 1860 mm D 1400 mm

室：

腔室容积：

260

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

等离子蚀刻

特殊四 2800-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 600 mm 高 2100 mm D 800 mm

室：

腔室容积：

2800

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

等离子蚀刻

特殊四 30-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 600 mm 高 1700 mm D 800 mm

腔室：

宽 12“ x 高 11.8” x 深 14.6”

腔室容积：

30

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Activation

Special Tetra 375-LF-PC

Control Cabinet:

W 870 mm H 1860 mm D 1400 mm

Chamber:

Chamber Volume:

375

Gas Supply:

Mass flow controllers

Generator:

1 pc. with 40 kHz

(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Activation

Special Tetra 400-LF-PC

Control Cabinet:

W 600 mm H 2100 mm D 800 mm

Chamber:

Chamber Volume:

400

Gas Supply:

Mass flow controllers

Generator:

1 pc. with 40 kHz

(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Etching

Special Tetra 420-LF-PC-PCB

Control Cabinet:

W 600 mm H 2100 mm D 800 mm

Chamber:

Chamber Volume:

420

Gas Supply:

Mass flow controllers

Generator:

1 pc. with 40 kHz

(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Activation

Special Tetra 4400-LF-PC

Control Cabinet:

W 600 mm H 2100 mm D 800 mm

Chamber:

Chamber Volume:

4400

Gas Supply:

Mass flow controllers

Generator:

1 pc. with 40 kHz

(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Cleaning

Special Tetra 500-LF-PC

Control Cabinet:

W 600 mm H 2100 mm D 800 mm

Chamber:

Chamber Volume:

500

Gas Supply:

Mass flow controllers

Generator:

1 pc. with 40 kHz

(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Coating

Special Tetra 5600-LF-PC

Control Cabinet:

W 600 mm H 2100 mm D 800 mm

Chamber:

Chamber Volume:

5600

Gas Supply:

Mass flow controllers

Generator:

1 pc. with 40 kHz

(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Etching

Special Tetra 575-LF-PC

Control Cabinet:

W 600 mm H 2100 mm D 800 mm

Chamber:

Chamber Volume:

575

Gas Supply:

Mass flow controllers

Generator:

1 pc. with 40 kHz

(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Activation

Special Tetra 600-LF-PC

Control Cabinet:

W 600 mm H 2100 mm D 800 mm

Chamber:

Chamber Volume:

600

Gas Supply:

Mass flow controllers

Generator:

1 pc. with 40 kHz

(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Etching

Special Tetra 600-LF-PC-D V 2

Control Cabinet:

W 600 mm H 2100 mm D 800 mm

Chamber:

Chamber Volume:

600

Gas Supply:

Mass flow controllers

Generator:

1 pc. with 40 kHz

(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)

Control:

PC

SEE THE DATASHEET

Plasma Cleaning

特殊四 600-低硫-PC-D V1

控制柜：

宽 600 mm 高 2100 mm D 800 mm

室：

腔室容积：

600

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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Plasma Cleaning

特殊四 7000-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 600 mm 高 2100 mm D 800 mm

室：

腔室容积：

7000

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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Plasma Etching

特殊四 7500-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 600 mm 高 2100 mm D 800 mm

室：

腔室容积：

7500

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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等离子体活化

特殊四 8000-低硫-聚碳酸酯

控制柜：

宽 600 mm 高 2100 mm D 800 mm

室：

腔室容积：

8000

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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等离子涂层

利乐100 PC

控制柜：

宽 600 mm 高 1700 mm D 800 mm

腔室：

宽 15.8“ x 高 15.8” x 深 24.6”

腔室容积：

100

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

电脑

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等离子体活化

利乐100 PCCE

控制柜：

宽 600 mm 高 1700 mm D 800 mm

腔室：

宽 15.8“ x 高 15.8” x 深 24.6”

腔室容积：

100

供气：

质量流量控制器

发生器：

1 个 40 千赫

（可选：13.56 兆赫或 2.45 千兆赫）

控制：

触摸屏

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