用于双激光故障注入的 D-LMS 显微镜站是一个平台，允许独立聚焦和扫描两个激光点，用于集成电路的评估。双点注射工艺的理想选择，它提供了所有空间和时间的灵活性，可以通过背面分析电路

性能特点

集成电路评估双激光站(均通过显微镜点)

背面激光故障注入的理想选择

具有高分辨率物镜的1米以下单模激光光斑尺寸

两个激光光斑都具有完全独立的时间和空间调制

通过数百米的硅来观察集成电路路径上的激光点的照相机

高再现性和高分辨率激光光斑位移

包括三个阿尔法诺夫激光模块

可选功能与配件

光学镜头技术

光电发射套件

热激光刺激套件

通过CE认证的激光外壳完成自动设置

高分辨率目标

技术参数

单模光纤激光器

PDM+/PDM+ HP

PDM4+ and PDM4+ HP

脉冲持续时间

从1.5纳秒到连续波

从1.5纳秒到连续波

峰值功率

高达3.2瓦

高达10瓦

波长

980纳米；1064牛米

980纳米；1064牛米

重复率

从单发到250兆赫

从单发到250兆赫

命令接口

TTL/LVTTL /软件& dlls

TTL/LVTTL /软件& dlls

光束质量

单模

单模

InGaAs 红外相机

Captor

640x512 µm

动态量程

140 dB

接口

USB(包含软件)

电学

电压

220 V/110 V

电流

16 A