VEECO设备

VEECO设备：

主要产品：

VEECO设备

VEECO激光发生器

VEECO AP 200/300光刻系统

VEECO LSA 101激光钉Anneal系统

VEECO LSA 201环境控制激光脉冲麻醉系统

VEECO 超高速4G晶片检测系统

VEECO 氧气压力控制系统

VEECO 衬底加热器

VEECO MBE系统电缆

VEECO Piezocon气体浓度传感器

VEECO 精密气体混合系统

VEECO 离子刻蚀系统

产品特点：

VEECO设备 AP 200/300

关键特征

2m分辨率宽带投影透镜设计，用于封装应用曝光波长为350-450 nm，用于处理众多的包装光敏材料。

可编程波长选择(GHI，GH，I)用于工艺优化和工艺纬度

用于厚胶工艺和大晶圆形貌的大聚焦深度

高系统吞吐量有利于系统拥有成本

可缩短曝光时间。

场尺寸为68乘26 mm，曝光两个扫描器字段，减少了每个晶片的曝光步骤数。

扭曲晶片处理达±4mm的风扇应用

无硬件转换的通用晶片处理(8和12英寸；或6和8英寸)

制作大面积插补器的现场拼接软件

完整的Secs/GEM软件包支持生产自动化和设备/过程跟踪